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    切單(Singulation),一個(gè)晶圓被分割成 多個(gè)半導(dǎo)體芯片的工藝
    來(lái)源:skhynix | 作者:陳鍾文 | 發(fā)布時(shí)間: 2021-06-28 | 3848 次瀏覽 | 分享到:

       一個(gè)晶圓要經(jīng)歷三次的變化過(guò)程,才能成為一個(gè)真正的半導(dǎo)體芯片:首先,是將塊兒狀的鑄錠切成晶圓;在第二道工序中,通過(guò)前道工序要在晶圓的正面雕刻晶體管;最后,再進(jìn)行封裝,即通過(guò)切割過(guò)程,使晶圓成為一個(gè)完整的半導(dǎo)體芯片??梢?jiàn),封裝工序?qū)儆诤蟮拦ば?,在這道工序中,會(huì)把晶圓切割成若干六面體形狀的單個(gè)芯片,這種得到獨(dú)立芯片的過(guò)程被稱作做“切單(Singulaton)”,而把晶圓板鋸切成獨(dú)立長(zhǎng)方體的過(guò)程則叫做“晶片切割(Die Sawing)”。近來(lái),隨著半導(dǎo)體集成度的提高,晶圓厚度變得越來(lái)越薄,這當(dāng)然給“切單”工藝也帶來(lái)了不少難度。

    一、晶圓切割(Wafer Dicing)的發(fā)展歷程

    圖1. 晶圓切割方法的發(fā)展歷程(切單)


       前道和后道工序通過(guò)各種不同方式的互動(dòng)而進(jìn)一步發(fā)展:后道工序的進(jìn)化可以決定晶圓上die單獨(dú)分離出的六面體小芯片)的結(jié)構(gòu)和位置,以及晶片上焊盤(電連接路徑)的結(jié)構(gòu)和位置;與之相反,前端工藝的進(jìn)化則改變了后端工藝中的晶圓背面減薄和“晶片切割(Die Sawing)”晶圓的流程和方法。因此,封裝的外觀日益變得精巧,會(huì)對(duì)后端工藝帶來(lái)很大的影響。而且,根據(jù)包裝外觀的變化,切割次數(shù)、程序和類型也會(huì)發(fā)生相應(yīng)的變化。那么,現(xiàn)在就讓我們一起通過(guò)芯片“切單”的演化過(guò)程,來(lái)看看五種切割方法吧。

    二、劃片切割(Scribe Dicing)

    圖2. 早期的劃片切割法:劃片后進(jìn)行物理上的分割(Breaking)@直徑為6英寸以下的的晶圓


       早期,通過(guò)施加外力切割的“掰開(kāi)(Breaking)”是唯一可以把晶圓分割成六面形的Die的切割法。然而,這種方法卻存小芯片邊緣剝落(Chipping)或產(chǎn)生裂紋等弊端。而且,由于沒(méi)有完全去除金屬表面的毛刺(Burr:切割時(shí)產(chǎn)生的一些殘?jiān)?,所以切割表面也非常粗糙?/span>

       為了解決這一問(wèn)題,“劃片(Scribing)”切割法應(yīng)運(yùn)而生,即在“掰開(kāi)(Breaking)”前,將晶圓表面切割至大約一半的深度。“劃片”,顧名思義,是指使用葉輪在晶圓的正面事先鋸切(半切)。早期,6英寸以下的晶圓大部分都使用了這種現(xiàn)在芯片之間先“劃片”,再“掰開(kāi)(Breaking)”的切割法。

    三、刀片切割 (或鋸切) (Blade Dicing or Blade Sawing)

    圖3-1. 刀片切割(鋸切)方法@傳統(tǒng)方法


       “劃片”切割法逐漸發(fā)展成為“刀片(Blade dicing)”切割(或鋸切)法,即連續(xù)使用刀片兩到三次進(jìn)行切割的方法。“刀片”切割法可以彌補(bǔ)“劃片”后“掰開(kāi)(Breaking)”時(shí),小芯片剝落的現(xiàn)象,可在“切單(Singulation)”過(guò)程中起到保護(hù)小芯片的作用?!暗镀鼻懈钆c之前的“劃片”切割有所不同,即進(jìn)行完一次“刀片”切割后,不是“掰開(kāi)(Breaking)”,而是再次用刀片切割。所以,也把它稱為“分步切割(Step Dicing)”法。

    圖3-2. 刀片切割(鋸切)過(guò)程中,保護(hù)膜的附著與摘除


       為了保護(hù)晶圓在切割過(guò)程中免受外部損傷,事先會(huì)在晶圓上貼敷膠膜,以便保證更安全的“切單”?!氨趁鏈p?。˙ack Grinding)”過(guò)程中,膠膜會(huì)貼在晶圓的正面。但與此相反,在“刀片”切割中,膠膜要貼在晶圓的背面。而在共晶貼片(Die Bonding,把分離的芯片固定在PCB或定架上)過(guò)程中,貼會(huì)背面的這一膠膜會(huì)自動(dòng)脫落。切割時(shí)由于摩擦很大,所以要從各個(gè)方向連續(xù)噴灑DI水。而且,葉輪要附有金剛石顆粒,這樣才可以更好地切片。此時(shí),切口(刀片厚度:凹槽的寬度)必須均勻,不得超過(guò)劃片槽的寬度。

       很長(zhǎng)一段時(shí)間,鋸切一直是被最廣泛使用的傳統(tǒng)的切割方法,其最大的優(yōu)點(diǎn)就是可以在短時(shí)間內(nèi)切割大量的晶圓。然而,如果切片的進(jìn)給速度(Feeding Speed)大幅提高,小芯片邊緣剝落的可能性就會(huì)變大。因此,應(yīng)將葉輪的旋轉(zhuǎn)次數(shù)控制在每分鐘30000次左右??梢?jiàn),半導(dǎo)體工藝的技術(shù)往往是通過(guò)很長(zhǎng)一段時(shí)間的積累和試錯(cuò),慢慢積累的秘訣(在下一節(jié)有關(guān)共晶貼片的內(nèi)容上,將討論有關(guān)切割與DAF的內(nèi)容)。

    四、先切割、后減薄 (DBG,Dicing Before Grinding): 切割順序改變了方法

    圖4. 現(xiàn)存的刀片切割&DBG(先切割,后減?。┓椒?/span>


       在直徑為8英寸晶圓上進(jìn)行刀片切割時(shí),不用擔(dān)心小芯片邊緣剝落或裂紋等現(xiàn)象。但隨著晶圓直徑增加至21英寸,且厚度變也得極薄,剝落與裂紋現(xiàn)象又開(kāi)始出現(xiàn)了。為了大幅減少在切割過(guò)程中對(duì)晶圓的物理沖擊,“先切割、后研磨”的DBG方法取代了傳統(tǒng)的切割順序。 與連續(xù)進(jìn)行切割的傳統(tǒng)“刀片”切割法不同,DBG先進(jìn)行一次“刀片”切割后,就通過(guò)不斷的背面減薄使晶圓厚度逐漸變薄,直到芯片分裂為止??梢哉f(shuō),DBG時(shí)以往“刀片”切割法的升級(jí)版,因?yàn)樗梢詼p少第二次切割帶來(lái)的沖擊,所以,DBG方法在“晶圓級(jí)封裝”上得到了迅速的普及。

    五、激光切割(Laser Dicing)

    圖5. 傳統(tǒng)激光切割(grooving)&激光隱形切割(SD)方法的比較


       晶圓級(jí)晶片尺寸封裝(WLCSP,Wafer Level Chip Scale Package)工藝主要采用激光切割法。采用激光切割可以減少剝落和裂紋等現(xiàn)象,從而獲得更優(yōu)質(zhì)的芯片,但晶圓厚度為100μm以上時(shí),生產(chǎn)率將大打折扣。所以,多用在厚度不到100μm(相對(duì)較薄)的晶圓上。激光切割是通過(guò)在晶圓的劃片槽上施加高能量的激光來(lái)切割硅。但使用傳統(tǒng)的激光(Conventional Laser)切割法,要在晶圓表面上事先涂層保護(hù)膜。因?yàn)?,在晶圓表面加熱或照射激光等,這些物理上的接觸會(huì)晶圓表面會(huì)產(chǎn)生凹槽,而且切割的硅碎片也會(huì)粘附在表面上。可見(jiàn),傳統(tǒng)的激光切割法也是直接切割晶圓表面,在這一點(diǎn)上,它與“刀片”切割法有相似之處。

       激光隱形切割(SD, Stealth Dicing)則是先用激光能量切割晶圓的內(nèi)部,再向貼附在背面的膠帶施加外部壓力,使其斷裂,從而分離芯片的方法。當(dāng)向背面的膠帶施加壓力時(shí),由于膠帶的拉伸,晶圓將被瞬間向上隆起,從而使芯片分離。相對(duì)傳統(tǒng)的激光切割法SD的優(yōu)點(diǎn)為:一是沒(méi)有硅的碎屑;二是切口(Kerf:劃片槽的寬度)窄,所以可以獲得更多的芯片。此外,使用SD方法剝落和裂紋現(xiàn)象也將大大減少,這至關(guān)定切割的整體質(zhì)量。因此,SD方法非常有望成為未來(lái)最受青睞的一項(xiàng)技術(shù)。

    六、等離子切割(Plasma Dicing)

       等離子切割作時(shí)最近發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)技術(shù),即在制造(Fab)過(guò)程中使用等離子蝕刻的方法進(jìn)行切割。等離子切割法用半氣體材料代替了液體,所以對(duì)環(huán)境影響相對(duì)較小。而且采用了對(duì)整個(gè)晶圓一次性切割的方法,所以“切單”速度也相對(duì)較快。然而,等離子方法要以化學(xué)反應(yīng)氣體為原料,且蝕刻過(guò)程非常復(fù)雜,因此其工藝流程相對(duì)較繁瑣。但與“刀片”切割、激光切割相比,等離子切割不會(huì)給晶圓表面造成損傷,從而可以降低不良率,獲得更多的芯片。

       近來(lái),由于晶圓厚度已減小至30μm,且使用了很多銅(Cu)或低介電常數(shù)等材料(Low-k )。因此,為了防止毛刺(Burr),等離子切割方法也將受到青睞。當(dāng)然,等離子切割技術(shù)也在不斷的發(fā)展中,相信不久的將來(lái),終有一天蝕刻時(shí)可以不再需要佩戴專用口罩,因?yàn)檫@就是等離子切割的一大發(fā)展方向。

       隨著晶圓的厚度從100μm到50μm、再到30μm、不斷變薄,獲得獨(dú)立芯片的切割方法也從“掰開(kāi)(breaking)”、“刀片”切割,到激光切割,再到等離子切割,不斷變化發(fā)展著。日趨成熟的切割方法,雖然帶來(lái)了切割工藝本身生產(chǎn)成本的增加,但另一方面,通過(guò)大幅減少半導(dǎo)體芯片切割中經(jīng)常出現(xiàn)的剝落、裂紋等不良現(xiàn)象和單位晶圓上芯片獲得量的增多,單個(gè)芯片的生產(chǎn)成本反而卻呈現(xiàn)出下降趨勢(shì)。當(dāng)然,晶圓單位面積芯片獲得量的增加,與劃片槽(Dicing Street寬度)寬度的縮小有著密切的關(guān)系。采用等離子切割法,相對(duì)采用“刀片”切割法,可以獲得將近20%的更多的芯片,這也是為什么人們選擇等離子切割法的一大原因。隨著晶圓、芯片外觀和封裝方法的發(fā)展變化,晶圓加工技術(shù)和DBG等各種切割工藝也正在應(yīng)運(yùn)而生。



    源文地址:https://news.skhynix.com.cn/singulation-the-moment-when-a-wafer-is-separated-into-multiple-semiconductor-chips/

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